上海集成电路配备资料工业立异中心请求硅通孔制备办法专利，防止后续硅通孔刻蚀进程中呈现图形化第二光刻胶层裂纹的问题

  欣奕华半导体资料请求一种化学放大型光刻胶用树脂及其制备办法和光刻胶组合物专利，可以有用按捺驻波效应

  江苏上达半导体、徐州众城芯微请求COF线路光刻胶残留去除钝化处理设备专利，沟槽底部与侧壁的残留光刻胶得以随处理液排出

  合肥维信诺请求屏幕面板出产中黄光返工工艺办法及设备专利，在黄光返工工艺中保留了玻璃基板上的有机保护膜

  先封科技请求电互连结构及其构成办法、面板级封装结构专利，使得终究构成的所述导电结构的高度可以明显提高

  维信诺请求显现面板的制备办法及显现面板、显现设备专利，改进光刻胶剥离工艺损害像素限制结构的问题

  恒坤新材：ArF光刻胶估计年内至2027年H1获得工业化发展 直击成绩会

  芯卓湖光请求光刻胶去除办法专利，处理现存技能中光刻胶去除进程存在Popping现象损害产品的问题

  材华科技请求一种蓝色光刻胶用三芳基甲烷染料及其组成办法专利，具有优异才能的色光功能

  LTC请求用来制作显现器的光刻胶剥离液组合物专利，具有优异才能的光刻胶去除才能

  日本光刻胶三巨子10月1日提价15%，高端涨22%，国产代替窗口被硬生生扯开

  合肥维信诺请求曝光机设备和光刻胶曝光办法专利，辅佐光源被装备为在曝光光源对待曝光基材进行曝光处理且产生宕机时，以敞开并对待曝...

  安集科技跌0.32%，成交额8.54亿元，近5日主力净流入4648.76万

  晶瑞电材跌1.17%，成交额2.79亿元，今天主力净流入679.44万

  材华科技请求卤素替代峻峭截止光谱蒽醌染料组成办法及其使用专利，使所得染料相较于未卤素替代的对应结构具有更峻峭的截止光谱